集成电路布图设计权（集成电路布图设计权的内容）
本文目录一览：
- 1、关于集成电路布图设计专有权的行使有何规定
- 2、集成电路布图设计保护条例
- 3、在哪里可以查到有集成电路布图设计专有权的公司?
- 4、集成电路布图设计的专有权有哪些
- 5、关于集成电路布图设计保护有何规定
- 6、集成电路布图设计专有权权属纠纷
关于集成电路布图设计专有权的行使有何规定
关于集成电路布图设计专有权的行使有何规定？律师解布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用其布图设计。转让布图设计专有权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记，由国务院知识产权行政部门予以公告。布图设计专有权的转让自登记之日起生效。许可他人使用其布图设计的，当事人应当订立书面合同。
关于集成电路布图设计保护的规定如下：专有权享有者：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照规定享有布图设计专有权。
适用范围：明确集成电路及布图设计的定义，规定中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计享有专有权；外国人创作的布图设计若首先在中国境内投入商业利用，或其创作者所属国与中国签订保护协议、共同参加国际条约，亦享有专有权。
布图设计权利人享有下列专有权：（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。律师补充：国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。
专有权内容 复制权：对独创性部分或整体进行复制。商业利用权：进口、销售或提供受保护的布图设计、集成电路或含该集成电路的物品。保护期限与终止保护期 一般期限：10年，自登记申请日或首次商业利用日起算（以较早者为准）。最长保护：自创作完成日起15年后，不再受保护。
集成电路布图设计保护条例
《集成电路布图设计保护条例》于2001年3月28日国务院第36次常务会议通过，2001年4月2日由中华人民共和国国务院令第300号公布，自2001年10月1日起施行。
《集成电路布图设计保护条例》核心内容立法目的与适用范围立法目的保护集成电路布图设计专有权，鼓励技术创新，促进科技发展。适用对象 集成电路：以半导体材料为基片，集成两个以上有源元件及互连线路的中间或最终产品。布图设计：元件与线路的三维配置，或为制造集成电路准备的此类配置。
《集成电路布图设计保护条例》主要内容概述：立法目的与适用范围 本条例的制定旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，并促进科学技术的发展。它适用于中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，以及符合特定条件的外国人创作的布图设计。
第四条 受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
在哪里可以查到有集成电路布图设计专有权的公司?
可以通过国家知识产权局官网查询拥有集成电路布图设计专有权的公司，具体说明如下：查询入口与公布位置：申请集成电路布图设计专有权的公司，其获批信息会通过国家知识产权局官网公布，公布位置通常在申请相关页面的下方区域。
我国首起集成电路布图设计专有权侵权纠纷案由国家知识产权局集成电路布图设计行政执法委员会顺利办结，认定南京日新科技有限公司侵权成立，并作出责令停止侵权、没收销毁相关设备及产品的处理决定。案件背景与性质本案是《集成电路布图设计保护条例》自2001年施行以来，国家知识产权局受理的首起侵权纠纷案件。
取得了若干软件著作权和集成电路布图设计专有权。光微科技专利情况 专利申请数量：根据智慧芽数据显示，光微科技在全球126个国家/地区中，截至最新共有20件专利申请。专利类型分布：实用新型专利约占60%。发明专利约占40%。专利布局领域：主要与图像传感器、成像系统等领域相关。
纳芯微是一家聚焦高性能模拟集成电路研发和销售的集成电路设计企业，覆盖模拟及混合信号芯片，广泛应用于信息通讯、工业控制、汽车电子和消费电子等领域。
管理部门：国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的登记、管理及行政执法。布图设计专有权 权利内容：权利人享有复制权（包括全部或具有独创性部分的复制）及商业利用权（如进口、销售含布图设计的集成电路或物品）。产生方式：专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记不受保护。
集成电路布图设计的专有权有哪些
1、法律分析：复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
2、集成电路布图设计的专有权主要包括复制权和商业利用权。复制权 复制权是指专有权人有权对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行重新制作。这种权利确保了布图设计的知识产权得到保护，防止他人未经许可就复制并利用该布图设计。
3、根据《集成电路布图设计保护条例》第七条，集成电路布图设计专有权内容主要包括两种：①复制权。集成电路布图设计复制权，是指权利人有权重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。②商业使用权。
关于集成电路布图设计保护有何规定
关于集成电路布图设计保护的规定如下：专有权享有者：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照规定享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计，如果首先在中国境内投入商业利用，或者其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议，或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，也依照规定享有布图设计专有权。
二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。律师补充：国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。
具体而言，成员方需禁止未经权利人许可的复制、进口、销售或为商业目的的其他利用行为，并规定保护期至少为10年（自登记申请日或世界首次商业利用日起算）。TRIPS协议将布图设计纳入全球贸易规则体系，意味着保护水平与国际贸易挂钩，未达标成员可能面临贸易制裁，从而强化了保护的强制性和普遍性。
适用范围：明确集成电路及布图设计的定义，规定中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计享有专有权；外国人创作的布图设计若首先在中国境内投入商业利用，或其创作者所属国与中国签订保护协议、共同参加国际条约，亦享有专有权。
《集成电路布图设计保护条例》核心内容立法目的与适用范围立法目的保护集成电路布图设计专有权，鼓励技术创新，促进科技发展。适用对象 集成电路：以半导体材料为基片，集成两个以上有源元件及互连线路的中间或最终产品。布图设计：元件与线路的三维配置，或为制造集成电路准备的此类配置。
【答案】：答案：独创性 解析：中国《集成电路布图设计保护条例》第四条规定：“受保护的集成电路布图设计应当具有独创性，即该集成电路布图设计是创作者自己智力劳动成果，并且在其创作时该集成电路布图设计在集成电路布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
集成电路布图设计专有权权属纠纷
对因集成电路布图设计有关技术成果权利归属发生的纠纷，可以统一确定为集成电路布图设计专有权权属纠纷。
我国首起集成电路布图设计专有权侵权纠纷案由国家知识产权局集成电路布图设计行政执法委员会顺利办结，认定南京日新科技有限公司侵权成立，并作出责令停止侵权、没收销毁相关设备及产品的处理决定。案件背景与性质本案是《集成电路布图设计保护条例》自2001年施行以来，国家知识产权局受理的首起侵权纠纷案件。
集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷涉及复杂法律问题。首先，需明确集成电路布图设计定义，即指集成电路中包含的有源元件和互联线路的三维配置或为制造集成电路而准备的配置。由此产生的专有权包括复制受保护布图设计及其应用物品的权力。
